Yarı iletken cihaz imalatı

Yarı iletken cihaz imalatı, yarı iletken cihazları, tipik olarak günlük elektrikli ve elektronik cihazlarda bulunan entegre devre (IC) yongalarında kullanılan metal oksit yarı iletken (MOS) cihazları üretmek için kullanılan süreçtir. Saf yarı iletken malzemeden yapılmış bir wafer üzerinde elektronik devrelerin kademeli olarak oluşturulduğu fotolitografik ve kimyasal işlem aşamalarının (yüzey pasivasyonu, termal oksidasyon, düzlemsel difüzyon ve bağlantı izolasyonu gibi) çok aşamalı bir dizisidir. Silisyum hemen hemen her zaman kullanılır, ancak özel uygulamalar için çeşitli bileşik yarı iletkenler kullanılır.

Yıllara göre yarı iletken ölçekleri

050 µm – 1960 yılları
020 µm – 1960 yılları
016 µm – 1960 yılları
010 µm – 1971 yılı
08 µm – 1972 yılı
07 µm – 1973 yılı
006 µm – 1974 yılı
05 µm – 1975 yılı
03.5 µm – 1976 yılı
003 µm – 1977 yılı
02.5 µm – 1979 yılı
02 µm – 1980 yılı
1.5 µm – 1981 yılı
01.3 µm – 1982 yılı
01.2 µm – 1983 yılı
001 µm – 1984 yılı
800 nm – 1987 yılı
750 nm – 1988 yılı
700 nm – 1989 yılı
650 nm – 1990 yılı
600 nm – 1990 yılı
500 nm – 1992 yılı
350 nm – 1993 yılı
280 nm – 1994 yılı
250 nm – 1996 yılı
240 nm – 1997 yılı
220 nm – 1998 yılı
180 nm – 1999 yılı
150 nm – 2000 yılı
130 nm – 2001 yılı
090 nm – 2003 yılı
080 nm – 2004 yılı
065 nm – 2005 yılı
055 nm – 2006 yılı
045 nm – 2007 yılı
040 nm – 2008 yılı
032 nm – 2009 yılı
028 nm – 2010 yılı
022 nm – 2012 yılı
020 nm – 2013 yılı
016 nm – 2014 yılı
014 nm – 2014 yılı
010 nm – 2016 yılı
007 nm – 2018 yılı
005 nm – 2020 yılı
003 nm – 2022 yılı
002 nm ~ 2024 yılı (planlanıyor)
001 nm ~ 2026 yılı (planlanıyor)

Ayrıca bakınız

Konuyla ilgili yayınlar

Kaeslin, Hubert (2008), Digital Integrated Circuit Design, from VLSI Architectures to CMOS Fabrication, Cambridge University Press , section 14.2.
Wiki related to Chip Technology 26 Ekim 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.

Dış bağlantılar

Wikimedia Commons'ta Yarı iletken cihaz imalatı ile ilgili ortam dosyaları mevcuttur.

Silicon Wafers for Semiconductor Device Fabrication 9 Ekim 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.
Semiconductor glossary 1 Şubat 2006 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.
Wafer heating
Designing a Heated Chuck for Semiconductor Processing Equipment 10 Ağustos 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.

Elektronik ile ilgili bu madde taslak seviyesindedir. Madde içeriğini genişleterek Vikipedi'ye katkı sağlayabilirsiniz.

Yarı iletken cihaz imalatı

MOSFET ölçeği (işlem düğümleri)
010 µm – 1971 006 µm – 1974 003 µm – 1977 1.5 µm – 1981 001 µm – 1984 800 nm – 1987 600 nm – 1990 350 nm – 1993 250 nm – 1996 180 nm – 1999 130 nm – 2001 090 nm – 2003 065 nm – 2005 045 nm – 2007 032 nm – 2009 022 nm – 2012 014 nm – 2014 010 nm – 2016 007 nm – 2018 005 nm – 2020 003 nm – 2022
Future 002 nm ~ 2024
Küçültme Transistör sayısı CMOS Cihaz (çoklu kapı) Moore yasası Yarı iletken Sanayi Nanoelektronik
g t d